第172章 三纳米图纸开库（1/2）

五级资源目录展开后，最先出现的是一套半导体工业工程包。

林霆回到祠堂后院书房，关掉外部通信设备。

系统目录按产业环节分成设计、材料、光刻、刻蚀、沉积、封装和检测七个模块。

他先打开芯片设计资料。

首页标注三纳米制程，晶体管采用环绕栅结构。整套资料覆盖服务器芯片、工业控制芯片和高可靠通信芯片。

工程包附有底层架构、验证工具和生产参数，可避开国外主流专利路径。

第二个模块是极紫外光刻系统。

光源波长十三点五纳米，投影物镜、掩模台、双工件台和真空腔体均有完整图纸。

核心部件拆成三万七千余份工艺文件，装配误差、材料寿命和检测方法均被列入制造手册。

林霆没有把整套文件导出。

林氏现有重工体系能制造真空腔体、精密导轨和部分工件台。

华盛材料可以承担磁悬浮组件和特种合金。光源、顶级光学镜组、光刻胶与量产检测仍缺产业基础。

系统给出的技术跨越当前公开制造水平，工程落地却需要工厂、人员和供应链。

目录末端还有一台纳米级精密光学加工验证台，设备只能承担小尺寸样片试制，产能不足以制造整套投影物镜，却能用于验证研磨和镀膜参数。

林霆兑换验证台，将设备登记到林氏重工研究院的封闭项目库。对外档案只写联合加工原型机，不记录核心结构来源。

第二天上午，魏建国收到一份隔离审阅通知。

他进入宏图地下资料室时，里面已经坐了二十七名专家。

有人来自国内微电子研究所，有人长期研究光源和真空设备。

几名老教授戴着厚镜片眼镜，桌面没有电脑，只放了编号纸张和计算器。

林婧宣读保密规则。

“每人只审阅所属模块，资料禁止带出。所有意见写入编号记录纸，项目结束后统一封存。

未经授权，不得讨论其他模块，也不得询问完整工程来源。”

魏建国拿到双工件台设计资料。

他原本准备先找加工误差，第一页参数便让他坐直了身体。

工件台采用磁悬浮驱动，定位精度进入亚纳米范围。华盛前期验证过的低温强磁材料，正好位于材料清单内。

他连续核算三组控制公式，又把导轨热变形参数交给旁边的控制专家复核。

两个小时后，第一轮审阅结束。

光源专家顾振东把记录纸放在桌上。

“十三点五纳米光源的转换效率超过现有实验方案，液滴发生器和收集镜污染控制也给出了寿命模型。

公式能闭合，材料参数有来源。只要样机达到文件标准，国内极紫外光刻设备能越过两代工程障碍。”

另一名芯片专家翻完环绕栅器件资料，手掌一直压着纸页。

“器件结构、设计规则和工艺窗口全部对得上。三纳米制程最难的良率爬坡，也有成套缺陷分类模型。

国外企业拿数千亿美元和几十年积累封住的路，这套资料给出了工程入口。”

本章未完，点击下一页继续阅读。