第282章 华创真正的底牌（1/2）

梁景徽一身简约工装，眼底带着连日攻坚后的疲惫。

却藏着难以掩饰的滚烫光芒，手中紧紧攥着一叠厚重的技术验收报告与设备实测数据表。

每一页都标注着密密麻麻的专业参数、调试记录、性能校验结果。

作为华创半导体公司CEO，他算是最不被大家认可的。

因为没有任何成就在。

很多人把梁景徽当骗子，以为他就是这样当上子公司CEO的。

而公司也只有核心技术人才，才明白光刻机有多难。

知道梁景徽真的不容易。

过去大半年时间，他带领数十名顶尖技术人员，隐于幕后，日夜攻坚，扎根在枯燥精密的光刻技术研发中，只为突破国外数十年的技术封锁。

“苏总。”

梁景徽走到办公桌前，难掩激动，声音都带着一丝不易察觉的颤抖，这是技术攻坚者突破极限，圆梦时刻的由衷动容。

“验收结果全部出来了，数据百分百达标！”

苏诚抬眼，目光落在他手中的报告上，神色平静，沉稳问道：“全部达标？详细说说。”

梁景徽重重点头，将报告平铺在桌面，指尖精准点在核心参数栏，逐项汇报，底气十足的说着：

“我们自主复刻研发的193nArF光源干式步进扫描式光刻机，所有核心部件、光学系统、精密工作台、对准控制系统、激光光源模组，全部实现国产化自研自产。

无任何海外技术依赖，无任何进口零部件！

整机曝光精度、扫描稳定性、良品率、连续工作时长，全部对标海外同期商用主流设备。

关键参数甚至小幅超越，经过七十二小时不间断满负荷实测，设备运行稳定，线宽控制精准，完全具备量产使用条件。”

2007年的国内半导体行业，光刻机领域完全处于被卡脖子的被动局面。

国内仅有少数老旧光刻设备，精度落后，稳定性差。

高端193n级别光刻机完全被海外垄断，严禁对华出口，技术壁垒高到近乎无法逾越。

在此之前，国内无数科研院所，国企大厂投入巨资，耗时数年攻坚，始终无法突破193n光刻的核心技术瓶颈，只能在低端制程徘徊。

而华创，一家成立不足1年，以智能手机出圈的民营科技公司，悄无声息完成了国家级的技术突破。

这绝非简单的设备仿制，而是彻底吃透光学原理、精密机械控制、激光光源调校、光刻工艺适配的全套底层技术，是真正意义上的国产自主可控！

梁景徽深吸一口气，压下心中的激动，继续汇报后续规划，眼神无比坚定：

“而且我们团队在干式机型攻坚过程中，彻底吃透了193nArF光源的全套技术逻辑。基于现有技术积累，193nArF光源浸润式光刻机的技术路径已经完全打通，核心难点全部攻克！”

他简单解释其中的技术跨度，让苏诚清晰知晓突破的含金量：

“干式机型是以空气为介质，是193n光刻的基础版本。

而浸润式机型是在物镜与晶圆之间加入超纯水作为介质，利用水的高折射率压缩等效波长。

能大幅提升曝光分辨率，制程能力、精度上限、适配场景全面升级，是下一阶段高端制程的核心设备。

现在技术图纸、算法模型、工艺方案全部定稿，不存在任何技术盲区，只差整机装配与调试！

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