第174章 首片三纳米下线（1/2）

返程专机落地江南后，林福把欧洲检测报告送进塔寨祠堂。

林霆只看了三十四点七皮米那一栏，便把国内光学单位名单交给礼堂。

“赫利俄斯替我们验证了路线，后面的钱留在国内。镜坯项目交给华盛牵头，宏图复制大型修形设备。

合作单位按模块获取参数，成果按投入比例登记，核心总成归林氏微电子。”

十二家高校实验室和九家光学单位进入联合项目，原先受出口限制的设备被拆成四十七个制造任务，林氏重工负责总集成。

华盛在青岚高纯材料线旁增建零膨胀镜坯车间，宏图以小型验证台的加工结果为标准，制造六台大型离子束修形设备。

国内光学研究所提供面形检测方案，膜层实验室负责钼硅沉积。

二百四十六天后，首套大型投影物镜进入总装。

赫利俄斯的第三轮报价仍在礼堂档案柜里，林氏没有回复。

林氏微电子厂房已经完成洁净室验收，首台极紫外光刻设备被命名为林光一号，总重一百八十六吨，共有三万四千余个登记部件。

关键模块全部拥有国内生产编号，控制程序运行在红客部参与建设的隔离网络中。

魏建国负责总装验收，他从宏图旧厂一路走到国家总集成项目，见过轴承试机，也见过货轮改造。

可林光一号的误差表，让他连续七天睡在厂房休息室。

一个螺栓温差超出标准，工件台就会偏离曝光位置。镜组装配时落入一粒微尘，整套光路都要重新清洁。

通电测试当天，厂区四道门禁全部关闭。

顾振东守在光源控制台前，梁启元坐在工艺终端旁。

二百七十名项目成员分布在设备区和检测区，没人携带私人通信工具。

上午九点，真空腔体抽到目标值。

十点二十分，液滴发生器进入工作状态。

激光击中锡滴后，十三点五纳米极紫外光进入收集系统，转换效率达到工程包标准。

双工件台开始高速交换，魏建国负责的机械总成完成八百次定位，最大偏差为零点三七纳米。

测试进行到收集镜寿命项目时，控制台出现污染预警。镜面温度高出工艺窗口，反射效率下滑零点六个百分点。

顾振东没有强行提高功率。

“执行保护程序，切换备用污染捕集单元。主光源维持低功率，工程组核查锡滴回收路径。

这个问题写在寿命模型里，装配时已经留了更换接口。”

技术人员拆下过滤组件，发现一处回收管内壁存在加工毛刺。锡颗粒附着后改变了气流方向，才引发收集镜污染。

宏图备件组换上修正部件，光源恢复额定功率，后续六小时寿命测试没有出现同类警报。

晚上八点，首片测试晶圆送入曝光区。

梁启元输入三纳米环绕栅测试版图，工件台完成定位后，光路穿过十二片国产反射镜，在晶圆表面完成第一轮曝光。

刻蚀和沉积设备依照工艺窗口运行，检测组每隔十分钟提交一轮数据。

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